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반도체 장비

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ALD DEPOSITION M/C
본 장비 원자층 증착 기술은 최첨단의 박막형성 기술로 극박막 제어를 가능하게 합니다. 낮은 공정 온도에서도 대구경 웨이퍼에 뛰어난 균일도로 불순물이 없고 피복 특성이 뛰어난 박막을 얻을 수 있기 때문에 원자층 증착 기술은 이미 100nm이하 소자의 핵심 공정에 대하여 CVD 및 PVD와 같은 기존 증착 기술을 대체하기 위해서 연구소용으로 개발되었습니다.